(2019年EUV光刻系统销售26台，销售额28亿欧元，占比31%)。此外，ASML还在2020年达成了第100台EUV光刻系统交付的里程碑。到2020年底，全球有2600万片晶圆是经过ASML的EUV系统曝光的，其中900万片的曝光量来自第四季度。
ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink表示ASML最新的EUV系统——“NXE:3600D”计划于2021年发布，这一尖端技术将使ASML从更广泛的客户群体中获得利润。ASML首席财务官Dassen预测：2021年EUV系统的销售额将增长30%，达到58亿欧元。
Dassen表示：“通过降低周期时间，我们在EUV光刻系统制造能力方面取得了良好的进展。但2021年，我们的供应链会成为我们发展的制约。面对Covid-19造成的潜在风险，我们不得不进行调整。”
此外，ASML正在研发下一代EUV光刻设备。下一代设备将采用High-NA技术，具有更高的数值孔径，分辨率和覆盖能力也将比现在的EUV光刻机提高70%。此前有媒体报道称，High-NA EUV光刻机价格预计为每台5000亿韩元(约合人民币29.66亿元)，比现在的EUV设备高出2~3倍。
为强化光刻技术，ASML于2012年收购全球知名准分子激光器厂商Cymer，以加强光刻机光源设备及技术；三年后的2015年，ASML向通快订购了15台EUV光刻工具。自那以后，EUV光刻业务成了通快发展的重心之一，2016年至今的历年财报均强调EUV业务为通快集团业务作出了重大贡献，近两年通快更是指出只有EUV和电子产品业务实现了逆势增长。2017年，通快宣布成功收购Access Laser 85%的股权，后者建立早期专注研发CO2激光器，利用在定制激光器方面的强大知识，于2012年成为EUV市场的核心供应商。收购完成后，通快迅速加强EUV相关设备研发，一举成为ASML EUV光刻机光源的独门供应商。
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